可用于开发纳米级的单层及多层功能膜-各种硬质膜、光学膜、金属膜、半导体膜、磁性薄膜、介质膜和氧化物薄膜等。

用于物理学、化学、材料科学领域的工艺试验。

1、极限真空度：<2×10.-5pa；

2、二个RF.DC兼容磁控靶, 靶直径为？60mm，RF.DC电源功率均为500W；

3、离子束溅射功能具回工位转靶,尺寸为70×70mm，离子能量1k—4kev连续可调，束流密度为15mA/cm2；

4、样品安装形式：样品在上部，靶在下部，具加热功能，贯高为500℃，可加-200V负偏压，样品尺寸为Φ30mm（能制备各种薄膜，包括金属膜、陶瓷薄膜）