200kV 场发射透射电子显微镜及制备

电子光学系统和样品台的高稳定性以及数字化的系统控制软件可满足高水平的自动化操作。该设备非常适合开展单颗粒分析、电子断层成像和电子晶体学等方面的研究。

1）最多56个，
具备试剂预冷/预热功能，温度设定：4℃到60℃；
2）恒定20000rpm，
8mm钨钢铣刀，
体视镜放大倍数6.3x-40x；
3）温度调节：+20℃ ~ +60℃，
铜网数量：20铜网/次，
染色程序：10个；
4）切片速度：0.05-100mm/sec，
超薄切片厚度：1nm-2.5um；
5）断裂玻璃厚度：6.4mm，8mm，
断裂压力：旋转调节，刻度显示，自动复位；
6）温度范围：+110℃至-185℃，可烘烤至+110℃，
Standard Mode，High Gas Flow，Wet Sectioning模式